某半导体技术加工的企业因晶圆擦拭工艺发生含氨废渣，排水量200吨/天。废渣中除氟化物外还带有氟化物和少量血本属，进行处理难度系数大。当地城市废气标准规范符合要求氟化物＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 污废水 组成及起源 晶圆清洁废渣（主耍来历）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀繁琐流程污水：含少量铜、镍等巨资属，pH值浮动大 CMP粉磨废气：含硅颗粒剂及氯离子 净化处理工艺设计具体流程 进行"化学反应积累+膜分离出来+折点氯化"团体工艺流程： 预处置 ：添加CaCl2除氟，把控好pH在7.5-8. 反渗透装置软件系统 ：去掉0.01μm上面的可吸入颗粒物物 反参透精炼 ：将氧化还原电位沉淀至1000mg/L上面的 折点氯化 ：精确性操作氯加药系统量，将挥发酚导出为氦气 铁离子变换 ：服务保障高价属未达标 决定性疗效 氟化物平稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属含水量少于检验限 水回收率达75% 淤泥诞生量限制40%