西安某半导体电源芯片电源芯片研发厂，晶圆制作加工流程中导致含硅、氟的特色焦化废水处置方法步骤，设置除理人数1200吨/日。焦化废水处置方法步骤部分繁多，包含的纳米级级硅粒状及氢佛酸，中国传统除理方法步骤难易不合格。 污废水 有效成分及渠道 其主要破坏物 ：胶体溶液硅（100-500nm粒级）、氟阴阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 原因加工过程 ：晶圆刻蚀焦化化工废水（45%）、CMP物理机诫cnc精密机械加工焦化化工废水（40%）、设备消毒水（15%） 鑫霖环保技术步骤 创新性主要包括"化学式沉淀物+防化膜剥离"高技术路线地图： 钙盐放置 ：添加氯化钙删去氟阴离子（绘制CaF2悠长岁月中） 斜管沉淀池生理反应 ：符合斜管沉淀池剂保证 橡胶胶体部分硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm钻孔大小膜公款私存微细顆粒 反融于平台 ：脱盐率>98%，收售率75% 减压蒸馏析出 ：浓水段进行氟化物零释放 最后视觉效果 氟化物密度：<8mg/L（不低于祖国1阶段标准单位10mg/L） 硅成分：<5mg/L 土地资源的回收率：70%采用放置圆形逆流式冷却塔补充水分 危险废弃物减量化：多效蒸发残余物量较过去的工序减轻60%